Op 18 april 2006 15:44:07 schreef LaStei:
Maar nu zit ik op een bijna vergeten hoekje van mijn geheugen te graven, misschien da F_E er iets meer over kan vertellen.
Waw, nu voel ik me pas echt oud!
Ehmm, eh, puntcontacttransistoren werden gemaakt van een brokje n-germanium met twee wolfraam prikkertjes erin: de emitter en de collector. Het grondvlak zelf (n) was dus de basis. Onder de punten van de wolframdraadjes vormde zich bij het 'inbranden' de p-gebiedjes.
Bij de fusietransistoren werd weer uitgegaan van een plakje n-germanium, en dan aan weerszijden een bolletje indium ingesmolten (de overblijvende ruimte ertussen werd dan lekker dun). De indium vormde ook weer de p gebiedjes. Zo maakten ze bijv. de OC71 en dat soort beestjes. De OC3 en OC13 waren geen echte typen; dat waren 'experimenteer-transistoren' ofwel out-of-spec afdankertjes van de productie die het voor een amateur nog wel leuk deden.
Bij de groei-junctie transistoren werd uitgegaan van n- of p-materiaal, waaruit het kristal werd getrokken, dan werd de tegengestelde verontreiniging toegevoegd zodat die ging overheersen, weer een eindje kristal getrokken, en ten slotte weer de eerste soort erin zodat die alsnog weer ging overheersen. Hier was n-p-n het gebruikelijkst.
Tegen de tijd dat silicium in de mode kwam, was dit de meest gebruikte methode. Vandaar mogelijk dat Si vaak npn was, en Ge vaak pnp.